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土工膜相关专利汇编-96
2025-11-2166


为适应工程对土工膜性能的需求,拓展土工膜的功能和应用范围,基于相关技术的发展和生产设备的更新,会员单位进行了深入研发并申报专利。为了促进土工膜技术推广与应用,增进技术人员对土工膜产品的认识,加强沟通交流,中国土工合成材料工程协会秘书处继续收集整理了2024年9月份协会会员单位授权的土工膜相关专利,如有遗漏,请及时向秘书处反馈,以便整理汇总。

发明专利


1.发明专利名称:一种坝面土工膜缺陷快速探测装置及探测方法


申请号:CN202210518686.8

公开号:CN114965577B

授权公告日:2024.09.03

专利权人:河海大学


本发明公开了一种坝面土工膜缺陷快速探测装置及探测方法,包括电极组件、探测移动车、遥控装置和计算机;电极包括稳压电源、主电极和若干反馈电极,主电极与稳压电源负极或正极相连接,且位置能够移动;所有反馈电极均埋设在垫层中,且均通过导线和切换开关并联在稳压电源的正极或负极上;探测移动车包括移动车本体、探测电极、洒水装置和传输器;探测电极包括均呈阵列式排列的固定电极和加密电极;加密电极位于固定电极之间,长度均能够伸缩。本发明能通过遥控装置控制探测移动车,对任意坝面库水以上及以下的土工膜电位分布进行粗测和精测,并通过计算机处理数据得到探测结果,提高土工膜缺陷探测效率和精度,扩大探测范围,减少人力成本。


图1显示了本发明一种坝面土工膜缺陷快速探测装置在坝面上工作时的示意图

图2显示了探测移动车的示意图

图3显示了坝面区域划分情况及区域排序示意图

图4显示了区域内探测路线示意图

图5显示了粗测所得无异常的电位等值线图

图6显示了粗测所得有异常的电位等值线图

图7显示了精测所得土工膜缺陷位置示意图

图8显示了精测所得电位等值线图

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图例说明:

1、库水;2土工膜;3、土工膜保护层;4、反馈电极;5、主电极;6、稳压电源;7、探测移动车;8、固定电极;9、加密电极;10、电极支座;11、传输器;12、洒水装置;13、吸水管;14、机械轮胎;15、绝缘伸缩棒;16、遥控装置;17、土工膜缺陷;18、计算机。


实用新型


1.实用新型名称:单向排水土工膜


申请号:CN202420045689.9

公开号:CN221778517U

授权公告日:2024.09.27

专利权人:宏祥新材料股份有限公司


本实用新型公开了单向排水土工膜,具体涉及排水土工膜技术领域,包括下透水土工布层,其上端设有凸块,所述下透水土工布层的端面设有单向排水件底板,所述单向排水件底板的中部开设有进水孔,所述单向排水件底板上端在进水孔的外侧设有支撑滑套。本实用新型在实际使用中时,通过在弹性滑块、弹性限位杆、支撑滑杆、密封滑块、支撑滑套和限位滑孔的对应设置状态下,能够通过弹性限位杆自动对密封滑块进行回弹,同时在限位滑孔与支撑滑杆的对应适配状态下,能够有效的增加密封滑块高度调整时的稳定性,从而避免密封滑块在支撑滑套内部对出水槽进行封堵的稳定性,从而避免密封滑块在对出水槽进行封堵时,密封滑快出现倾斜。


图1为本实用新型整体安装结构示意图

图2为本实用新型单向排水件整体结构示意图

图3为本实用新型单向排水件剖面结构示意图

图4为本实用新型单向排水件剖面连接结构示意图

图5为本实用新型密封滑块放大结构示意图

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图例说明:

1下透水土工布层、2上透水土工布层、3凸块、4导水涵道、5单向排水件底板、6第二安装内螺纹、7防护罩、8进水孔、9支撑滑杆、10密封滑块、11支撑卡板、12支撑滑套、13安装底环、14第一安装外螺纹、15第一安装内螺纹、16第二安装外螺纹、17限位滑槽、18出水槽、19弹性滑块、20限位滑孔、21弹性限位杆、22密封连接环。


2. 实用新型名称:一种钢板桩围堰


申请号:CN202420186013.1

公开号:CN221645831U

授权公告日:2024.09.03

专利权人:西南交通大学


本实用新型公开了围堰领域的一种钢板桩围堰,包括钢板桩,钢板桩围设在河床上形成围堰;土工膜,土工膜围设于围堰的迎水面,土工膜的顶部固定在钢板桩的顶部,土工膜的底部设有压紧结构将土工膜压紧在钢板桩的底部;水平方向相邻的两块土工膜通过自封拉链进行连接固定,土工膜上还设有永磁体,永磁体将土工膜和钢板桩固定;本实用新型的有益效果为:通过在围堰的迎水面铺设一层土工膜能够有效的起到挡水的作用,解决了钢板桩之间咬合不紧导致的漏水问题,密封性更好,挡水性能更好,并且结构简单,使用方便。


图1为本实用新型的结构示意图

图2为土工膜的结构示意图

图3为图2中的A部分放大示意图

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图例说明:

钢板桩1、挂杆11、土工膜2、自封拉链21、自封凹槽211、自封凸条212、挂孔22、压紧结构3、河床4、永磁体5。


——摘录自“国家知识产权局网站”

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